鉬靶材的用處很大，它的原材料是粉末狀的，在師傅的手中，通過系列的操作方法，把它變成了鉬靶材工藝品，讓生活質量不斷的提升。

　　旋轉鉬靶材的構成狀況：

　　1、旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里邊裝有靜止不動的磁體，以慢速滾動。

　　2、濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是種新式的物理氣相鍍膜(PVD)方法。

　　3、在被濺射的靶(陰)與陽之間加個正交磁場和電場，高真空室中充入所需要的惰性氣體(一般為Ar氣)，在電場的效果下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶宣布的電子受磁場的效果與工作氣體的電離幾率增大，在陰附近構成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的效果下加快飛向靶面，以較高的速度炮擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵從動量轉化原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

　　4、鎢鉬制品廠家表示，旋轉靶材用處很寬泛，在太陽能電池，修建玻璃，汽車玻璃，半導體，平板電視等領域廣泛應用。